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新型圖像冠層分析儀

更新時間:2018-11-23  |  點擊率:525

圖像冠層分析儀 型號:GC02

一、功能   

廣泛適用于農業(yè)、園藝、林業(yè)領域有關栽培、育種、 植物群體對比與發(fā)展的研究與教學中農作物、果樹、森林內冠層受光狀況的測量和分析。能測算植物冠層的太陽直射光透過率、天空散射光透過率、冠層的消光系數,葉面積指數和葉片平均傾角等。

二、原理和方法

  采用了冠層孔隙率與冠層結構相關的原理。它是根據光線穿過介質減弱的比爾定律,在對植物冠層定義了一系列假設前提的條件下,采用半理論半經驗的公式,通過冠層孔隙率的測定,計算出冠層結構參數。采用的是對冠層下天穹半球圖像分析測量冠層孔隙率的方法。

三、特點

1.非破壞性地測定冠層結構,自動水平調整探頭,

2. 圖像分析軟件可以任意定義圖像分析區(qū)域(天頂角可分10區(qū),方位角可分10區(qū))。對不同方向的冠層進行區(qū)域性分析時,可以任意屏蔽地物景像和不合理的冠層部分(如缺株、邊行問題等)。

四、技術參數

1.鏡頭角度:150°

2.分辨率:768×494pix

3.測量范圍:天頂角由0°~75°(150°魚眼鏡頭)可分割成十個區(qū)域,方位角360°亦可分割成十個區(qū)域。

4.PAR感應范圍:感應光譜400~700nm。   測量范圍0~2700μmol/m2•s

5.分析軟件:專業(yè)ECA-GC02軟件。

6.電 池:7.4V\5.6AH。

9.工作溫度:0~55℃

 

 

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